金属蚀刻的原理
　　通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要金属蚀刻区域的保护膜去除，在金属蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。 　　最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，金属蚀刻更是不可或缺的技术,如今更广泛的应用与标识牌的制作工艺上，区别于以往的丝网印刷，保留时间更久。

蚀刻的工艺流程
　　曝光法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→烘干→涂布→烘干→曝光→ 显影→蚀刻→脱膜→OK
网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK